Полисилициумот е важен целен материјал за распрскување.Користењето на методот на магнетронско распрскување за подготовка на SiO2 и други тенки филмови може да направи материјалот на матрицата да има подобра оптичка, диелектрична и отпорност на корозија, што е широко користено во екранот на допир, оптичката и другите индустрии.
Процесот на леење долги кристали е да се реализира насочното зацврстување на течниот силикон од дното кон врвот постепено со прецизно контролирање на температурата на грејачот во жешкото поле на инготската печка и дисипацијата на топлина на материјалот за топлинска изолација, и зацврстување долги кристали брзина е 0,8 ~ 1,2 cm / h.Во исто време, во процесот на насочено зацврстување, може да се реализира ефектот на сегрегација на металните елементи во силиконските материјали, да се прочистат поголемиот дел од металните елементи и да се формира униформа поликристална структура на силиконски зрнца.
Лиење полисилициум, исто така, треба намерно да се допингува во процесот на производство, со цел да се промени концентрацијата на нечистотиите на акцепторот во топењето на силициумот.Главниот допант на лиениот полисилициум од p-тип во индустријата е главната легура на силициум бор, во која содржината на бор е околу 0,025%.Количината на допинг се одредува според целната отпорност на силиконската обланда.Оптималната отпорност е 0,02 ~ 0,05 Ω • cm, а соодветната концентрација на бор е околу 2 × 1014 cm-3. Сепак, коефициентот на сегрегација на борот во силициумот е 0,8, што ќе покаже одреден ефект на сегрегација во процесот на насочно зацврстување, што е, борниот елемент е распореден во градиент во вертикална насока на инготот, а отпорноста постепено се намалува од дното кон врвот на инготот.
Време на објавување: 26 јули 2022 година