Целта има многу функции и широка примена во многу полиња.Новата опрема за распрскување речиси користи моќни магнети за спирала на електроните за да се забрза јонизацијата на аргонот околу целта, што ја зголемува веројатноста за судир помеѓу целта и јоните на аргонот.
Зголемете ја стапката на прскање.Општо земено, DC sputtering се користи за метална обвивка, додека RF комуникациско прскање се користи за непроводливи керамички магнетни материјали.Основниот принцип е да се користи празнење со сјај за да се погодат јоните на аргон (AR) на површината на целта во вакуум, а катјоните во плазмата ќе забрзаат и ќе се упатат кон површината на негативната електрода како прсканиот материјал.Овој удар ќе направи материјалот од целта да излета и да се депонира на подлогата за да формира филм.
Општо земено, постојат неколку карактеристики на филмско обложување со помош на процесот на распрскување:
(1) Метал, легура или изолатор може да се направат во податоци за тенок филм.
(2) Под соодветни услови за поставување, филмот со ист состав може да се направи од повеќе и неуредни цели.
(3) Мешавината или соединението од целниот материјал и молекули на гас може да се направи со додавање на кислород или други активни гасови во атмосферата на испуштање.
(4) Целната влезна струја и времето на прскање може да се контролираат и лесно е да се добие висока прецизна дебелина на филмот.
(5) Корисно е за продукција на други филмови.
(6) На распрсканите честички тешко влијае гравитацијата, а целта и подлогата можат слободно да се организираат.
Време на објавување: мај-24-2022 година