Трговија на големо AlTa Sputtering Target PVD облога со тенок филм со висока чистота Производител и добавувач |Богата

Алуминиум-тантал

AlTa Sputtering Target PVD облога со тенок филм со висока чистота, избрана слика по мерка

Краток опис:

Категорија	Целта за распрскување на легура
Хемиска формула	АлТа
Состав	Алуминиум-тантал
Чистота	99,9%, 99,95%, 99,99%
Облик	Плочи, цели на колони, лачни катоди, прилагодено
Процес на производство	Топење во вакуум, PM
Достапна големина	L≤200mm, W≤200mm

Испратете ни е-пошта

Детали за производот

Ознаки на производи

Целите се подготвуваат со мешање на прашок од алуминиум и тантал или со топење во вакуум проследено со набивање до целосна густина.Така набиените материјали опционално се синтеруваат и потоа се формираат во саканата целна форма.

Целта за прскање со алуминиум Тантал има висока чистота, хомогена микроструктура и одлична спроводливост.Широко се користи во формирањето на тенки филмови за индустријата за прикажување на рамни панели.Алуминиум Тантал, исто така, може да се додаде за да се произведе легура на титаниум со високи перформанси за да се подобри неговата соодветност за висока температура.

Содржина на нечистотија на легура Ал-Та

составот	содржина(%)
	Ta	Fe	Si	C	O
AlTa60	55,0~65,0	≤0,05	≤0,02	≤0,01	≤0,05
AlTa70	65,0~75,0	≤0,05	≤0,02	≤0,01	≤0,05

Rich Special Materials е специјализиран за Производство на мета за распрскување и може да произведува материјали за распрскување од алуминиум тантал според спецификациите на клиентите.Нашите производи се карактеризираат со одлични механички својства, хомогена структура, полирана површина без сегрегација, пори или пукнатини.За повеќе информации, ве молиме контактирајте не.

Претходно: AlTi легура на распрскување Целна висока чистота

Следно: AlCu Sputtering Target PVD облога со тенок филм со висока чистота