Добредојдовте на нашите веб-страници!

ZrSi легура sputtering Target со висока чистота тенок филм PVD облога Прилагодено

Циркониум силикон

Краток опис:

Категорија

Целта за распрскување на легура

Хемиска формула

ZrSi

Состав

Циркониум силикон

Чистота

99,5%, 99,7%, 99,9%,

Облик

Плочи, цели на колони, лачни катоди, прилагодено

Процес на производство

Топење во вакуум, PM

Достапна големина

L≤200mm, W≤200mm


Детали за производот

Ознаки на производи

Циркониум Силиконската цел за распрскување е направена со помош на вакуумско топење и енергетска металургија.

Присутниот циркониум може да го подобри однесувањето на тврдоста и отпорноста на корозија.

Целта на циркониум силикон е со ниска електрична спроводливост и може да го намали преостанатиот стрес, што ќе ја подобри стабилноста на облогите и ќе го продолжи работниот век.Премазите може да се користат на стаклото Low-E поради неговата висока конзистентност и отпорност на корозија.

Во споредба со чистиот силикон, целите за распрскување со висока чистота од циркониум силикон може значително да ја подобрат отпорноста на триење на депонираниот слој за 4-6 пати.

Затоа, Zr-Si е достапен за многу практични апликации.

Rich Special Materials е производител на Sputtering Target и може да произведува материјали за распрскување со циркониум силикон според спецификациите на клиентите.За повеќе информации, ве молиме контактирајте не.


  • Претходно:
  • Следно: