Трговија на големо TaNb Sputtering Target Pvd облога со тенок филм со висока чистота Производител и добавувач |Богата

Тантал ниобиум

TaNb Sputtering Target Pvd-облога со тенок филм со висока чистота, избрана слика по нарачка

Краток опис:

Категорија	Целта за распрскување на легура
Хемиска формула	TaNb
Состав	Тантал ниобиум
Чистота	99,9%, 99,95%, 99,99%
Облик	Плочи, цели на колони, лачни катоди, прилагодено
Процес на производство	Вакуумско топење
Достапна големина	L≤2000mm, W≤200mm

Испратете ни е-пошта

Детали за производот

Ознаки на производи

Тантал ниобиум прскање Опис на целта

Тантал Целта за распрскување на ниобиум е направена со помош на вакуумско топење на Тантал и ниобиум.Овие две се висока точка на топење (тантал 2996℃, ниобиум 2468℃), висока точка на вриење (тантал 5427℃, ниобиум 5127℃) ретки метали.Тантал Легурата на ниобиум има сличен изглед со челикот, има сребрено-сив сјај (додека пудрата е темно сива).Има многу поволни својства: отпорност на корозија, суперспроводливост и јачина на висока температура.Така, сите апликации или индустрии би можеле да имаат корист од користењето легури на тантал ниобиум, како што се електрониката, стаклото и оптиката, воздушната, медицинскиот уред, суперспроводливоста и челикот.

Танталот и ниобиумот се клучни во вселенската индустрија со години поради нивната импресивна сила, отпорност на корозија и други атрактивни карактеристики и се користат во многу важни компоненти како ракетни мотори и прскалки.

Тантал ниобиум sputtering Целна пакување

Нашата цел за распрскување TaNb е јасно означена и означена надворешно за да обезбеди ефикасна идентификација и контрола на квалитетот.Се внимава да се избегне каква било штета што може да биде предизвикана за време на складирањето или транспортот.

Добијте контакт

Целите за распрскување со тантал ниобиум на RSM се со ултра висока чистота и униформа.Тие се достапни во различни форми, чистоти, големини и цени.Специјализирани сме за производство на материјали за обложување со тенок филм со висока чистота со одлични перформанси, како и со најголема можна густина и најмали можни просечни големини на зрно за употреба во обложување на калапи, декорација, автомобилски делови, стакло со ниска E, интегрирано коло со полупроводници, тенок филм отпор, графички дисплеј, воздушна, магнетна снимка, екран на допир, соларна батерија со тенок филм и други апликации за физичко таложење на пареа (PVD).Ве молиме испратете ни барање за тековните цени на цели за распрскување и други материјали за таложење кои не се наведени.

Претходно: NbTi Sputtering Target Pvd облога со тенок филм со висока чистота Направен по нарачка

Следно: WRe Sputtering Target Pvd слој со тенок филм со висока чистота Направен по нарачка