CoCrTa легури sputtering Целта со висока чистота тенок филм Pvd облога Прилагодено

Целта за распрскување на кобалт хром Тантал се произведува со процес на лиење и топење во вакуум.а потоа се формираат во посакуваната целна форма.Има висока чистота и хомогена микроструктура.Co-Cr-Ta порано беше критичен материјал за магнетно снимање поради неговите магнетни својства: висока присилност, својство со низок шум и одлична квадратура.

Rich Special Materials е специјализиран за производство на целни цели и може да произведе материјали за распрскување со кобалт хром тантал според спецификациите на клиентите.За повеќе информации, ве молиме контактирајте не.